半導体シリコンにn型ドーピングを行う際によく用いられる元素はどれか？

シリコンにn型ドーピング（電子を多数担体とする導入）を行う際には、リン（P）やヒ素（As）など周期表の第V族元素がよく用いられます。これらはシリコン（第IV族）格子に置換して一つ余分な価電子電子を持ち、自由電子が増えることで電気伝導が向上します。対照的にホウ素など第III族元素はp型ドーピング（正孔が多数担体）を引き起こします。よってn型ドーピングの代表はリンです。